Στόχος βολφραμίου Sputtering
video
Στόχος βολφραμίου Sputtering

Στόχος βολφραμίου Sputtering

Τύπος υλικού: Βολφράμιο
Σύμβολο: W
Ατομικό Βάρος: 183,84
Ατομικός αριθμός: 74
Χρώμα/Εμφάνιση: Γκρι Λευκό, Λαμπερό, Μεταλλικό
Θερμική αγωγιμότητα:174 W/mK
Σημείο Τήξεως (βαθμός): 3.410
Συντελεστής Θερμικής Διαστολής:4,5 x 10-6/Κ

Περιγραφή προϊόντων

Tungsten Sputtering Target

 

Στόχος βολφραμίου Sputtering

Ένας στόχος εκτόξευσης βολφραμίου είναι ένα μεταλλικό υλικό υψηλής-καθαρότητας που χρησιμοποιείται σε διεργασίες PVD (Physical Vapor Deposition) για την εναπόθεση λεπτών μεμβρανών βολφραμίου σε υποστρώματα.


Λόγω του υψηλού σημείου τήξης, της χαμηλής αντίστασης και της εξαιρετικής θερμικής σταθερότητας, το βολφράμιο χρησιμοποιείται ευρέως σε προηγμένες ηλεκτρονικές εφαρμογές και εφαρμογές επίστρωσης.

 

Οι στόχοι διασκορπισμού βολφραμίου χρησιμοποιούνται ευρέως σε βιομηχανίες ημιαγωγών, οθόνης και επίστρωσης λεπτής μεμβράνης όπουυψηλή καθαρότητα, σταθερή εναπόθεση και ομοιόμορφη ποιότητα φιλμείναι κρίσιμες.

 

Στο Ehisen, προμηθεύουμεστόχοι βολφραμίου υψηλής-πυκνότητας, εξαιρετικά-υψηλής καθαρότηταςσχεδιασμένο γιασυστήματα ψεκασμού μαγνητρονίων, εξασφαλίζοντας σταθερή απόδοση και μεγάλη διάρκεια ζωής σε απαιτητικά περιβάλλοντα παραγωγής.

 

👉 Προσαρμοσμένα μεγέθη, λύσεις συγκόλλησης και γρήγορη παράδοση διαθέσιμα

 

Προδιαγραφές προϊόντων

 

Καθαρότητα W>99.95%
Πυκνότητα >19,1 g/cc
Γύρω Διάμετρος Μικρότερη ή ίση με 14 ίντσες
Πάχος μεγαλύτερο ή ίσο με 1mm
Φραγμός Μήκος μικρότερο ή ίσο με 32 ίντσες
Πλάτος Μικρότερο ή ίσο με 12 ίντσες
Πάχος μεγαλύτερο ή ίσο με 1mm
Τύπος: Επίπεδοι και περιστρεφόμενοι στόχοι εκτόξευσης βολφραμίου
 

Παρακάτω παρουσιάζονται τα πιο τυπικά μεγέθη των στόχων μας για βολφραμίου. Εάν δεν βρείτε το μέγεθος που χρειάζεστε, μη διστάσετε να επικοινωνήσετε μαζί μας.

Πάχος Πλάτος Μήκος Ευθυγραμμία Κατακόρυφος Φινίρισμα επιφάνειας
8.0~16.0 10~450 10~500 <0.05 <2o  
3.0~8.0 10~450 10~800 <0.05 <2o  
1.0~3.0 10~450 10~1200 <0.05 <2o  

Tungsten Sputtering Target

Tungsten Sputtering Target

 

Τυπικές εφαρμογές των στόχων βολφραμίου

 

high-purity-tungsten-target

 

 

Βασικά πλεονεκτήματα των στόχων βολφραμίου μας

 

 

 

● Υψηλή καθαρότητα (έως 99,999%)
Εξασφαλίζει ελάχιστη μόλυνση στις διεργασίες ημιαγωγών

● High Density Structure (>19,2 g/cm³)
Παρέχει ομοιόμορφο ρυθμό εκτόξευσης και σταθερό πάχος φιλμ

● Χαμηλή παραγωγή σωματιδίων
Βελτιώνει την απόδοση σε εφαρμογές επίστρωσης ακριβείας

● Σταθερή μικροδομή
Εξασφαλίζει σταθερή απόδοση σε μεγάλους κύκλους λειτουργίας

● Προσαρμοσμένες λύσεις συγκόλλησης
Χάλκινη πλάκα στήριξης με συγκόλληση ινδίου διαθέσιμη

tungsten-sputtering-target-disc

 

Πώς να επιλέξετε τον σωστό στόχο βολφραμίου

 

Η επιλογή του σωστού στόχου εκτόξευσης βολφραμίου εξαρτάται από:

● Επίπεδο καθαρότητας → ημιαγωγός έναντι βιομηχανικής επίστρωσης

● Το μέγεθος των κόκκων → επηρεάζει την ομοιομορφία του φιλμ

● Bonded vs non-bonded → απόδοση απαγωγής θερμότητας

● Μέγεθος στόχου → συμβατό με εξοπλισμό sputtering

👉 Παρέχουμε δωρεάν υποστήριξη επιλογής με βάση τις συνθήκες της διαδικασίας σας

PVD Thin Film Deposition Materials List - Stanford Advanced Materials

 

 

 

ehisen

about us

 

παράδοση συσκευασίας

 

 

παράδοση συσκευασίας

 

Υλικά συσκευασίας:

Συνήθως χρησιμοποιούνται υλικά συσκευασίας-αντιστατικά, αδιάβροχα- και αντικραδασμικά-, όπως πλαστικός αφρός, ξύλινα κουτιά, χαρτοκιβώτια κ.λπ..

Μέθοδος συσκευασίας:

Τοποθετήστε το προϊόν στο υλικό συσκευασίας και στερεώστε το με πληρωτικό για να αποτρέψετε τη μετακίνηση ή την καταστροφή του στόχου κατά τη μεταφορά.

packing

Λογότυπο και ετικέτα:

Τοποθετήστε σαφές λογότυπο και ετικέτα στη συσκευασία, συμπεριλαμβανομένου του μοντέλου στόχου, των προδιαγραφών, της ποσότητας, της ημερομηνίας παραγωγής, του αριθμού παρτίδας και άλλων πληροφοριών.

Τρόπος μεταφοράς:

Τα προϊόντα μεταφέρονται συνήθως αεροπορικώς ή χερσαία. Κατά τη μεταφορά, πρέπει να λαμβάνεται μέριμνα ώστε να μην επηρεαστεί ο στόχος από έντονους κραδασμούς, συγκρούσεις ή αλλαγές θερμοκρασίας.

Διαδικασίες Εξυπηρέτησης

 

 

Οι Διαδικασίες Εξυπηρέτησής μας

 

Ερευνα

1

>>

Προσδιορίστε το προϊόν

2

>>

Παραγγείλετε δείγματα

3

>>

Επιβεβαιώστε την παραγγελία

4

>>

Μεταφορά πολλαπλών-καναλιών

5

>>

Υπηρεσίες μετά την πώληση

6

FAQ

 

 

 

FAQ

 

 

01.Τι στόχο καθαρότητας βολφραμίου πρέπει να επιλέξω;

Για εφαρμογές ημιαγωγών, συνιστάται 99,99% ή 99,999%. Χαμηλότερη καθαρότητα μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε γενική επίστρωση.

02. Ποια είναι η τυπική διάρκεια ζωής ενός στόχου βολφραμίου;

Εξαρτάται από την πυκνότητα ισχύος και τις συνθήκες διεργασίας, αλλά οι στόχοι υψηλής-πυκνότητας εξασφαλίζουν μεγαλύτερη σταθερή χρήση.

03. Παρέχετε δεσμευμένους στόχους βολφραμίου;

Ναι, προσφέρουμε πλάκες στήριξης χαλκού με συγκόλληση ινδίου για καλύτερη διάχυση της θερμότητας.

04. Μπορείτε να προσαρμόσετε το μέγεθος και το σχήμα;

Ναι, υποστηρίζουμε την πλήρη προσαρμογή βάσει σχεδίων ή δειγμάτων.

05. Ποια είναι η τιμή του στόχου εκτόξευσης βολφραμίου;

Η τιμή εξαρτάται από την καθαρότητα, το μέγεθος και την ποσότητα. Επικοινωνήστε μαζί μας για ακριβή προσφορά.

 

 

Επικοινωνήστε μαζί μας

 

 
είμαστε εδώ για εσάς

Για να λάβετε μια γρήγορη και ακριβή προσφορά, στείλτε μας:

● Μέγεθος και σχήμα στόχου

● Απαιτούμενη καθαρότητα

● Ποσότητα

● Εφαρμογή (ημιαγωγός / επίστρωση / ηλιακός)

👉 Θα προτείνουμε την πιο οικονομικά-οικονομική λύση εντός 24 ωρών

γράψτε μας
επισκέπτοντάς μας
Διεύθυνση: No. 28, Gaoya Industrial Park, Gaoxin District, Baoji City, Shaanxi Province.
Φαξ
Αριθμός: 0086-0917-3292780
Επικοινωνήστε απευθείας
Τηλέφωνο:

+86 18700703333 Έλσα λιν

 

 

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος βολφραμίου sputtering, Κίνα κατασκευαστές στόχων βολφραμίου, προμηθευτές, εργοστάσιο

Αποστολή ερώτησής